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All-sputtered oxide thin-film transistors fabricated at 150 °C using simultaneous ultraviolet and thermal treatment

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作者
Young Jun Tak,Si Joon Kim,Sera Kwon,Hee Jun Kim,Kwun-Bum Chung,Hyun Jae Kim
出处
期刊：Journal of Materials Chemistry C [The Royal Society of Chemistry]
日期：2018-01-01 卷期号：6 (2): 249-256 被引量：18
标识
DOI：10.1039/c7tc04642a
摘要
An all-sputtered oxide TFT process combined with simultaneous ultraviolet and thermal (SUT) treatment for consecutive fabrication processes at low temperatures.
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