Band-Gap Engineering: From Physics and Materials to New Semiconductor Devices

半导体 异质结 分子束外延 光电子学 带隙 量子隧道 晶体管 材料科学 工程物理 测距 电子 纳米技术 物理 外延 电气工程 计算机科学 工程类 电信 电压 量子力学 图层(电子)
作者
Federico Capasso
出处
期刊:Science [American Association for the Advancement of Science (AAAS)]
卷期号:235 (4785): 172-176 被引量:435
标识
DOI:10.1126/science.235.4785.172
摘要

Band-gap engineering is a powerful technique for the design of new semiconductor materials and devices. Heterojunctions and modern growth techniques, such as molecular beam epitaxy, allow band diagrams with nearly arbitrary and continuous band-gap variations to be made. The transport properties of electrons and holes can be independently and continuously tuned for a given application. A new generation of devices with unique capabilities, ranging from solid-state photomultipliers to resonant tunneling transistors, is emerging from this approach.
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