Investigation of p-Type Silicon Heterojunction Radiation Hardness

辐射硬化 光电子学 光伏 太阳能电池 异质结 材料科学 背景(考古学) 工程物理 辐射 光伏系统 物理 电气工程 光学 生物 工程类 古生物学
作者
Romain Cariou,Adrien Danel,N. Enjalbert,Frédéric Jay,Sébastien Dubois
出处
期刊:IEEE Journal of Photovoltaics 卷期号:14 (1): 41-45 被引量:1
标识
DOI:10.1109/jphotov.2023.3333197
摘要

The space sector is facing significant upheavals, in particular in terms of cost reduction challenges, driven by the emergence of Low Earth Orbit constellations.Concerning solar power generation, it opens up perspectives for alternative solar photovoltaics technologies, instead of the highly performant & expensive III-V multi-junction devices.Crystalline silicon solar cells, which have fueled initial space developments, spark a renewed interest, thanks to their industrial maturity, high efficiencies on p-type substrates & costs of two to three orders of magnitude lower than those of III-V.In this context, we present here the results of electrons radiation hardness studies on p-type (Ga-doped) silicon heterojunction solar cells.Devices with thicknesses down to 60µm are manufactured and then characterized before and after 1MeV electrons irradiations.The best ultra-thin heterojunction cell shows an end-of-life (1.5x10 14 e/cm 2 ) externally certified efficiency of 15.9% under AM1.5G at room temperature; this translates into ~ 14.3% with AM0 spectrum.The benefits of thickness reduction with respect to radiation hardness are presented, and the cells improvement pathways discussed.
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