Structuring multiscale porous architecture in polyether sulfone films for ultra-low dielectric constant

材料科学 电介质 复合材料 多孔性 微电子 介电常数 介电损耗 空隙(复合材料) 纳米技术 光电子学
作者
Wei Ren,Xiao Huang,Guangming Yan,Jie Yang,Gang Zhang
出处
期刊:Polymer [Elsevier]
卷期号:272: 125832-125832 被引量:4
标识
DOI:10.1016/j.polymer.2023.125832

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