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Effect of Plasma Modulation on Si Chemical DryEtching in F$_2$ Remote Plasmas
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作者
Yeon-Sook Yun,
S.M. Park,
N.-E. Lee
出处
期刊:
Journal of the Korean Physical Society
[Springer Science+Business Media]
日期:2008-11-15
卷期号:53 (9(5)): 2386-2390
被引量:8
标识
DOI:10.3938/jkps.53.2386
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