Photoinjected hot-electron damage in silicon point-contact solar cells

材料科学 氧化物 扩散 晶体硅 电子 紫外线 光电子学 物理 冶金 量子力学 热力学
作者
P. E. Gruenbaum,Richard R. King,R.M. Swanson
出处
期刊:Journal of Applied Physics [American Institute of Physics]
卷期号:66 (12): 6110-6114 被引量:32
标识
DOI:10.1063/1.343592
摘要

Initial designs of single-crystal silicon point-contact solar cells have shown a degradation in their efficiency after being exposed to concentrated sunlight. The main mechanism appears to be an increase in recombination centers at the Si/SiO2 interface due to ultraviolet light photoinjecting electrons from the silicon conduction band into the silicon dioxide that passivates the cell’s front surface. The instability of the interface is significantly worse if the oxide is grown in the presence of trichloroethane. Texturization of the surface also leads to more instability. A reasonably good resistance to ultraviolet can be created by putting a phosphorus diffusion at the surface, and can be improved further by stripping off the deposited oxide after the diffusion and regrowing a dry thermal oxide.
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