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Gate controllable band alignment transition in 2D black-arsenic/WSe2 heterostructure

异质结 材料科学 光电子学 带隙 电场 整改 物理 电压 量子力学
作者
Mianzeng Zhong,Baocheng Cui,Zhangxun Mo,Yali Yu,Qinglin Xia,Fen Zhang,Jinzhou Chen,Le Huang,Bo Li,Juehan Yang,Jun He,Zhongming Wei
出处
期刊:Applied physics reviews [American Institute of Physics]
卷期号:10 (2) 被引量:4
标识
DOI:10.1063/5.0147499
摘要

Controlling the manner of band alignment of heterostructures increases design freedom with novel physical properties, enables the design of new functional devices, and improves device performance, but the lattice matching limits the diversity of traditional heterostructures. Van der Waals heterostructures (vdWHs) fabricated by rationally mechanical restacking different two-dimensional (2D) layered materials or sequential synthesis can overcome this limitation. However, it is difficult to achieve full control over the band alignment for a specific vdWHs by means of an applied vertical electric field. Here, we take advantage of the band structure alignment properties of narrow-bandgap black-arsenic (b-As) and large-bandgap WSe2 to realize b-As/WSe2 vdWHs with type-I band alignment. The band alignment can be tuned from type I to type II by gate electric field, which greatly improves the photoresponsivity over 103. An ultra-fast photoresponse of about 570 ns is obtained, which is much better than that of vdWHs with the same structure. The b-As/WSe2 vdWHs also can achieve high-performance rectifier phototransistor with an ultra-high rectification ratio exceeding 106, a small conductance slope of about 86 mV/dec, and a low curvature coefficient of about 46 V−1. Our work paves the way for the exploitation of b-As heterojunction for ultra-fast and low-power optoelectronic applications.
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