Tuning of SiO2/Si interface by a hybrid plasma process combining oxidation and atom-migration

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作者
Shaoxiang Liang,Bing Wu,Yinhui Wang,Hui Deng
出处
期刊:Journal of Manufacturing Processes [Elsevier]
卷期号:107: 166-178 被引量:1
标识
DOI:10.1016/j.jmapro.2023.10.045
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