Quantification of the Electromechanical Measurements by Piezoresponse Force Microscopy

压电响应力显微镜 压电 材料科学 电容器 压电系数 信号(编程语言) 铁电性 悬臂梁 声学 光电子学 电压 电气工程 物理 计算机科学 复合材料 电介质 程序设计语言 工程类
作者
Pratyush Buragohain,Haidong Lu,Stefan Slesazeck,Tony Schenk,Pamenas Kariuki,Sebastjan Glinšek,Hiroshi Funakubo,Jorge Íñiguez,Emmanuel Defaÿ,Uwe Schroeder,Alexei Gruverman
出处
期刊:Advanced Materials [Wiley]
卷期号:34 (47) 被引量:25
标识
DOI:10.1002/adma.202206237
摘要

Abstract Piezoresponse force microscopy (PFM) is widely used for characterization and exploration of the nanoscale properties of ferroelectrics. However, quantification of the PFM signal is challenging due to the convolution of various extrinsic and intrinsic contributions. Although quantification of the PFM amplitude signal has received considerable attention, quantification of the PFM phase signal has not been addressed. A properly calibrated PFM phase signal can provide valuable information on the sign of the local piezoelectric coefficient—an important and nontrivial issue for emerging ferroelectrics. In this work, two complementary methodologies to calibrate the PFM phase signal are discussed. The first approach is based on using a standard reference sample with well‐known independently measured piezoelectric coefficients, while the second approach exploits the electrostatic sample–cantilever interactions to determine the parasitic phase offset. Application of these methodologies to studies of the piezoelectric behavior in ferroelectric HfO 2 ‐based thin‐film capacitors reveals intriguing variations in the sign of the longitudinal piezoelectric coefficient, d 33,eff . It is shown that the piezoelectric properties of the HfO 2 ‐based capacitors are inherently sensitive to their thickness, electrodes, as well as deposition methods, and can exhibit wide variations including a d 33,eff sign change within a single device.
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