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AlN/diamond interface nanoengineering for reducing thermal boundary resistance by molecular dynamics simulations

纳米柱 材料科学 热导率 钻石 界面热阻 声子 纳米技术 纳米工程 热阻 光电子学 分子动力学 热的 纳米结构 凝聚态物理 复合材料 化学 热力学 物理 计算化学
作者
Zijun Qi,Wei Shen,Rui Li,Xiang Sun,Lijie Li,Qijun Wang,Gai Wu,Kang Liang
出处
期刊:Applied Surface Science [Elsevier]
卷期号:615: 156419-156419 被引量:26
标识
DOI:10.1016/j.apsusc.2023.156419
摘要

Interfacial thermal transport has become a significant bottleneck in thermal management, particularly for the electronic high-power devices represented by III-V semiconductor devices. Diamond has great potential to be integrated with devices to dissipate heat efficiently due to its ultra-high thermal conductivity. In this paper, the Non-equilibrium Molecular Dynamics method, taking into consideration of the parameters such as the type of the interleaved nanopillars, the size and the height of the nanopillars, was used to study the influence of nanopillars on the thermal boundary resistance (TBR) at AlN/diamond interfaces. The TBR of the optimal AlN/diamond interface of nanopillar structures could be reduced by 28% compared to the planar interface. The vibrational density of states (VDOS) analysis of both AlN and diamond on each side of the interface can reveal that the enhancement of AlN intermediate frequency phonons and the shift of diamond VDOS towards the lower frequency can contribute to the optimization of the interfacial thermal transport. Hence, this work can provide a deeper understanding of the impact of nanostructures on the interfacial thermal transport and can also be a guideline for efficient thermal management through the introduction of nanostructures at the heterogeneous interfaces.
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