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Foundations of low-temperature plasma physics—an introduction

等离子体 血浆药物 工程物理 术语 微电子 离子 纳米技术 物理 材料科学 核物理学 大气压等离子体 量子力学 语言学 哲学
作者
Achim von Keudell,Volker Schulz-von der Gathen
出处
期刊:Plasma Sources Science and Technology [IOP Publishing]
卷期号:26 (11): 113001-113001 被引量:100
标识
DOI:10.1088/1361-6595/aa8d4c
摘要

The use of plasmas as a reactive mixture of ions, electrons and neutrals is at the core of numerous technologies in industry, enabling applications in microelectronics, automotives, packaging, environment and medicine. Recently, even the use of plasmas in medical applications has made great progress. The dominant character of a plasma is often its non equilibrium nature with different temperatures for the individual species in a plasma, the ions, electrons and neutrals. This opens up a multitude of reaction pathways which are inaccessible to conventional methods in chemistry, for example. The understanding of plasmas requires expertise in plasma physics, plasma chemistry and in electrical engineering. This first paper in a series of foundation papers on low temperature plasma science is intended to provide the very basics of plasmas as a common starting point for the more in-depth discussion of particular plasma generation methods, plasma modeling and diagnostics in the other foundation papers. In this first paper of the series, the common terminology, definitions and main concepts are introduced. The covered aspects start with the basic definitions and include further plasma equilibria, particle collisions and transport, sheaths and discharge breakdowns.
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