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Atomic Layer Deposition (ALD) Process Development of Nb-doped TiO₂ as a Transparent Conducting Oxide (TCO) and ALD of HfO₂/Nb₂O₅ Bilayers as Insulating Barriers for Metal/Insulator/Insulator/Metal (MIIM) Diodes

原子层沉积 材料科学 金属绝缘体金属 绝缘体(电) 兴奋剂 氧化物 金属 图层(电子) 高-κ电介质 光电子学 纳米技术 冶金 电气工程 电介质 工程类 电容器 电压
作者
Shijia Lin

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