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Influence of Carbon Source on the Buffer Layer for 4H-SiC Homoepitaxial Growth

缓冲器（光纤） 图层（电子） 材料科学 碳纤维 光电子学 化学工程 纳米技术 复合材料 计算机科学 复合数 电信 工程类
作者
Shangyu Yang,Ning Guo,Siqi Zhao,Yunkai Li,Moyu Wei,Yang Zhang,Xingfang Liu
出处
期刊：Materials [MDPI AG]
日期：2024-05-29 卷期号：17 (11): 2612-2612
链接
mdpi.com mdpi.com nih.gov nih.govdoi.org
标识
DOI：10.3390/ma17112612
摘要
In this study, we systematically explore the impact of C/Si ratio, pre-carbonization time, H
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