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Low-Temperature Synthesis of Aluminum Nitride by Addition of Ammonium Chloride

氮化物 氮气 材料科学 氯化铵 化学工程 热导率 电导率 氯化物 渗氮 无机化学 化学 冶金 复合材料 物理化学 有机化学 图层(电子) 工程类
作者
Takahiro Kato,Katsuyasu Sugawara
出处
期刊:ACS omega [American Chemical Society]
卷期号:4 (12): 14714-14720 被引量:18
标识
DOI:10.1021/acsomega.9b01140
摘要

Aluminum nitride (AlN) is highly insulating and has a high thermal conductivity. AlN also has the advantages of being nontoxic and chemically stable. Therefore, it is a suitable sealing material for electric devices. Previous studies have shown that the addition of NH4Cl has a large influence on the formation of AlN and can effectively be used in its low-temperature synthesis without the use of special equipment. However, it has not been clarified whether NH4Cl simply promotes the reaction between Al and nitrogen or directly contributes to the nitridation reaction. In this study, which was part of a series of studies on the development of low-temperature synthesis methods for AlN, the nitridation behaviors of Al in Al-N2, Al-NH4Cl-N2, and Al-NH4Cl-He systems were determined, and the effects of the heating temperature and amount of NH4Cl on the nitridation behavior were examined in detail. When NH4Cl was added, AlN began to form at 600 °C, a formation temperature that was approximately 200 °C lower than that when only Al powder was heated under a nitrogen stream. The fact that the formation of AlN was also observed when the NH4Cl-added Al powder was heated under a helium gas stream confirmed that nitrogen derived from NH4Cl contributed to the formation of the AlN. Furthermore, based on the experimental results, the reaction mechanism was clarified, and the kinetic parameters for the nitridation of Al were determined.
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