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作者
D. Raiser,J.P. Deville
标识
DOI：10.1016/0368-2048(91)85016-m
摘要
XPS photoemission lines from GdF3, GdCl3, Gd2(SO4)3, Gd(NO3)3, Gd2O3 and metallic Gd have been measured in order to determine their chemical shifts. The atomic sensitivity factors of Gd3d and Gd4d transitions have been determined along with Auger parameters wherever possible.
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