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The structure and properties of chromium diboride coatings deposited by pulsed magnetron sputtering of powder targets

材料科学 溅射沉积 冶金 硼化物 腐蚀 涂层 二硼化钛 溅射 陶瓷 脉冲直流 二硼化锆 复合材料 薄膜 纳米技术
作者
M. Audronis,Peter Kelly,R.D. Arnell,A. Leyland,A. Matthews
出处
期刊:Surface & Coatings Technology [Elsevier BV]
卷期号:200 (5-6): 1366-1371 被引量:37
标识
DOI:10.1016/j.surfcoat.2005.08.022
摘要

Metal boride coatings are attracting increased interest, due to the fact that they combine high hardness with good wear and corrosion resistance. These coatings are often deposited by the sputtering of hot-pressed or sintered ceramic targets. However, targets of this nature can be prone to cracking and, since the user is limited to a single composition per target, do not offer the opportunity to readily vary film stoichiometry. Titanium and zirconium borides have been widely studied; however, chromium diboride is recognised as offering superior performance in corrosive-wear environments. In this study, therefore, CrB2 coatings were deposited by the pulsed magnetron sputtering of loosely packed blended powder targets. This work was carried out in a deposition system specifically designed for the use of powder targets, and the effectiveness of this approach has been previously demonstrated through the production of a number of different multi-component coating materials. The CrB2 coatings deposited exhibit extremely dense, defect-free, crystalline structures with high hardness (> 30 GPa) and good corrosion resistant properties. This paper discusses the dependence of structure, mechanical properties and corrosion behaviour of such coatings on the DC pulsed plasma treatment conditions chosen.
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