Ripple Patterns Spontaneously Emerge through Sequential Wrinkling Interference in Polymer Bilayers

叠加原理 涟漪 材料科学 弯曲 干扰(通信) 激发态 光学 比例(比率) 物理 复合材料 功率(物理) 计算机科学 热力学 频道(广播) 核物理学 量子力学 计算机网络
作者
Luca Pellegrino,Annabelle Tan,João T. Cabral
出处
期刊:Physical Review Letters [American Physical Society]
卷期号:128 (5) 被引量:8
标识
DOI:10.1103/physrevlett.128.058001
摘要

We report the formation of "ripple" patterns by the sequential superposition of nonorthogonal surface waves excited by the spontaneous buckling of polymeric bilayers. Albeit of a different nature and micron scale compared to the familiar sedimentary ripples caused by gentle wave oscillations, we find commonalities in their topography, defects, and bifurcations. The patterns are rationalized in terms of a defect density that depends on the relative angle between generations, and a constant in-plane bending angle that depends on skin thickness. A minimal wave summation model enables the design of ripple and checkerboard surfaces by tuning material properties and fabrication process.
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