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Tunable Schottky contact in graphene/InP3 van der Waals heterostructures

石墨烯 肖特基势垒 异质结 欧姆接触 材料科学 半导体 范德瓦尔斯力 肖特基二极管 光电子学 纳米技术 兴奋剂 凝聚态物理 图层(电子) 化学 物理 有机化学 二极管 分子
作者
Dingbo Zhang,Yue Hu
出处
期刊:Applied Surface Science [Elsevier]
卷期号:554: 149608-149608 被引量:19
标识
DOI:10.1016/j.apsusc.2021.149608
摘要

To date, the study of contact behavior between graphene and two-dimensional semiconductors is an open topic. Here, we carry out the density-functional-theory to calculate graphene/InP3 van der Waals heterostructures. The results share that low binding energy and mechanical stability ensure that graphene/InP3 heterostructures can be prepared in the experiment. Moreover, n-type Schottky barrier is found in graphene/InP3 heterostructures. Shortening the layer spacing induces a shift of Schottky contact from n- to p-type, and finally makes graphene/InP3 heterostructures to be semiconductors under a large compressive strain. In addition, we design the Schottky barrier transistor on the basis of modulated contact type (Schottky to Ohmic contact) under external electric field, which also can tune the doping of graphene in graphene/InP3 heterostructures. These findings are of utmost significance to guiding the design of new generation graphene-based contact.

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