Deep‐Ultraviolet Luminescence Properties of AlN

发光 紫外线 材料科学 光电子学 环境科学
作者
Ryota Ishii,Akira Yoshikawa,Mitsuru Funato,Yoichi Kawakami
出处
期刊:Physica Status Solidi (rrl) [Wiley]
卷期号:18 (11) 被引量:1
标识
DOI:10.1002/pssr.202400017
摘要

High‐resolution, low‐excitation photoluminescence (PL) spectroscopy is performed for unintentionally doped, silicon‐doped, and magnesium‐doped homoepitaxial aluminum nitride (AlN) films, using a wavelength‐tunable high‐repetition‐rate laser. The wavelength‐tunable laser is used to distinguish between the luminescence and scattering signals from AlN. Providing the high‐resolution, low‐excitation PL spectra, the current understanding of the deep‐ultraviolet luminescence properties of AlN is reviewed and potential assignments for the unknown luminescence lines and bands are discussed. Although previous studies have led to a consensus on the origins of some emission peaks and bands such as the neutral silicon donor‐bound exciton transition and free exciton transitions involving longitudinal optical phonons, it is shown that many of the emission peaks are still unidentified. The origins of all the emission peaks should be elucidated to enable control of the electronic and optoelectronic properties of AlN.
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