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Contribution of oxygen vacancies to the phase transition and ferroelectricity of the Al:HfO2films

材料科学 退火(玻璃) 四方晶系 分析化学(期刊) 铁电性 单斜晶系 氧气 正交晶系 晶界 X射线光电子能谱 相变 结晶学 凝聚态物理 核磁共振 电介质 晶体结构 微观结构 冶金 化学 物理 光电子学 有机化学 色谱法
作者
Xin Liu,Lulu Yao,Weidong Zhao,Jiawei Wang,Yonghong Cheng
出处
期刊:Nanotechnology [IOP Publishing]
卷期号:35 (37): 375702-375702 被引量:1
标识
DOI:10.1088/1361-6528/ad53d4
摘要

We investigate the effects of oxygen vacancies on the ferroelectric behavior of Al:HfO
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