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Three‐Dimensional SiCN Ceramic Microstructures via Nano‐Stereolithography of Inorganic Polymer Photoresists

材料科学 陶瓷 微观结构 热解 立体光刻 甲基丙烯酸酯 聚合物 复合材料 收缩率 热解炭 纳米颗粒 光刻胶 化学工程 表面改性 纳米技术 聚合 图层(电子) 工程类
作者
Tuan Anh Pham,D.‐P. Kim,Tae-Woo Lim,S.‐H. Park,Daejong Yang,K.‐S. Lee
出处
期刊:Advanced Functional Materials [Wiley]
卷期号:16 (9): 1235-1241 被引量:183
标识
DOI:10.1002/adfm.200600009
摘要

Abstract We report a newly synthesized inorganic polymer photoresist with a high ceramic yield by the functionalization of polyvinylsilazane (KiON VL20) with 2‐isocyanatoethyl methacrylate via linkage or insertion reaction routes. The chemistry of the synthesis and the pyrolytic conversion as well as the mechanical evaluation were investigated by using various analytical instruments. We show for the first time that this photosensitive resin is a novel precursor for the fabrication of complex 3D SiCN ceramic microstructures with a 210 nm resolution via a two‐photon absorbed crosslinking process and subsequent pyrolysis at 600 °C under a nitrogen atmosphere. Moreover, the dimensional deformation during pyrolysis was significantly reduced by adding silica nanoparticles as a filler. In particular, the ceramic microstructures containing 40 wt % silica nanoparticles exhibited a relatively isotropic shrinkage owing to its sliding free from the substrate during pyrolysis.
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