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Degradation of arylarsenic compounds by microorganisms

化学 降级(电信) 环境化学 微生物 碳纤维 碳源 甲苯 生物降解 有机化学 细菌 生物化学 生物 复合材料 材料科学 计算机科学 复合数 电信 遗传学
作者
Kunichika Nakamiya,Takashi Nakayama,Hiroyasu Ito,John S. Edmonds,Yasuyuki Shibata,Masatoshi Morita
出处
期刊:Fems Microbiology Letters [Oxford University Press]
卷期号:274 (2): 184-188 被引量:34
标识
DOI:10.1111/j.1574-6968.2007.00835.x
摘要

Microorganisms were not directly accumulated when soil contaminated to about 0.5 mM with diphenylarsinic acid (DPAA) was used as the sole source of carbon. However, using toluene as the carbon source yielded several isolates, which were then used in cultivation with DPAA as the sole source of carbon. By these methods, Kytococcus sedentarius strain NK0508, which can grow in up to 0.038 mM DPAA, was isolated. The toxicity of DPAA retarded the growth of K. sedentarius and the direct accumulation of DPAA-utilizing microorganisms from environmental samples. This strain can utilize about 80% of DPAA and phenylarsonic acid as the sole source of carbon for 3 days. Degradation products of DPAA were determined to be cis, cis, muconate and arsenic acid. When K. sedentarius was cultivated with methylphenylarsinic acid and diphenylmethylarsine, about 90% and 10% degradation of the two compounds, respectively, were observed. Diphenylmethylarsine oxide, possibly synthesized by methylation of DPAA, was detected as one of the transformation products. These results suggest that degradation is initiated by splitting of the phenyl groups from the arylarsenic compounds with subsequent hydroxylation of the phenyl groups and ring opening to yield cis, cis, muconate.

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