Properties of Amorphous Silicon Prepared by Decomposition of Silane

硅烷 分解 非晶硅 热分解 材料科学 无定形固体 辉光放电 化学工程 硅烷 化学分解过程 等离子体 复合材料 晶体硅 化学 有机化学 光电子学 物理 工程类 量子力学
作者
D. Kaplan
出处
期刊:Physica Scripta [IOP Publishing]
卷期号:24 (2): 396-398 被引量:1
标识
DOI:10.1088/0031-8949/24/2/009
摘要

Hydrogenerated amorphous silicon is usually prepared by decomposition of silane at low temperature T < 400°C in a glow discharge environment. Recently we have explored a novel process involving thermal decomposition of silane around 600°C followed by post-hydrogenation in a hydrogen plasma. The physical properties of this type of film are discussed and compared to those of films prepared in the usual way.
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