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Influence of scandium concentration on power generation figure of merit of scandium aluminum nitride thin films

功勋 薄膜 材料科学 锆钛酸铅 氮化物 压电 复合材料 电介质 光电子学 铁电性 冶金 纳米技术 图层(电子)
作者
Morito Akiyama,Keiichi Umeda,Atsushi Honda,Toshimi Nagase
出处
期刊:Applied Physics Letters [American Institute of Physics]
卷期号:102 (2) 被引量:177
标识
DOI:10.1063/1.4788728
摘要

The authors have investigated the influence of scandium concentration on the power generation figure of merit (FOM) of scandium aluminum nitride (ScxAl1−xN) films prepared by cosputtering. The power generation FOM strongly depends on the scandium concentration. The FOM of Sc0.41Al0.59N film was 67 GPa, indicating that the FOM is five times larger than that of AlN. The FOM of Sc0.41Al0.59N film is higher than those of lead zirconate titanate and Pb(Mg1/3Nb2/3)O3-PbTiO3 films, which is the highest reported for any piezoelectric thin films. The high FOM of Sc0.41Al0.59N film is due to the high d31 and the low relative permittivity.

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