TCAD Investigation of AlGaN/AlN/GaN HEMT for Hydrogen Sensing Applications

高电子迁移率晶体管 材料科学 宽禁带半导体 光电子学 氮化镓 电子工程 晶体管 电气工程 纳米技术 化学 工程类 电压 有机化学 图层(电子)
作者
Rajiv Kumaran,Jagdeep Rahul,Arathy Varghese,Lintu Rajan
标识
DOI:10.1109/edtm58488.2024.10511532
摘要

AlGaN/GaN HEMT-based sensors are capable of withstanding a very high temperature and provide stable performance even in extreme environments. Through this work, it presents the simulation study of the sensing performance of AlGaN/AlN/GaN HEMT-based hydrogen sensor. The simulations are performed using SILVACO TCAD at different temperatures ranging from 300K to 700K. The thermal analysis shows that the device is capable of giving good sensitivity in extreme temperature conditions. The impact of the AlN inter layer in the epitaxial layer has also been studied and it is observed that the AlN layer provides significant improvement in its performance.
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