The Schottky barrier and charge transport through the Cu/Al2O3 interface

材料科学 肖特基势垒 肖特基二极管 金属半导体结 半导体 电荷(物理) 工作职能 肖特基效应 光电子学 金属 凝聚态物理 复合材料 冶金 二极管 物理 量子力学
作者
Fengzi Zhou,Shaolin Li,Dawei Kang
出处
期刊:Surfaces and Interfaces [Elsevier]
卷期号:36: 102622-102622
标识
DOI:10.1016/j.surfin.2022.102622
摘要

The charge transport through the interface between metal and semiconductor is important for conductive performance. In this work, we systematically studied the Schottky barrier and charge transport properties of the Cu/Al2O3 interface. Using density functional theory plus the nonequilibrium green function method, a 8.8 eV bandgap of Al2O3 is obtained and the Schottky barrier is calculated for the oxygen and aluminium terminated interfaces. The charge transport properties are found to depend sensitively on the combination of the interfaces. The Schottky barrier and charge transport properties found in the Cu/Al2O3 interface can guide its applications in the field of integrated circuits and metal-ceramic composites.
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