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30‐3: Direct Observation of 2 Delta L in a‐IGZO TFT Using Scanning Capacitance Microscopy

电容 薄膜晶体管 三角洲 材料科学 光电子学 纳米技术 化学 电极 物理 物理化学 图层(电子) 天文
作者
Hyunsoo Lee,Woo-Geun Lee,Yujin Kim,K.T. Kim,Song‐Hee Kim,Seongyeol Syn,Beom Jun Kim,Kap‐Soo Yoon
出处
期刊:Sid's Digest Of Technical Papers [Wiley]
卷期号:55 (1): 390-393
标识
DOI:10.1002/sdtp.17539
摘要

Herein, we have directly investigated a 2 delta L as the diffusion length in a‐IGZO TFT using a scanning capacitance microscopy (SCM) technique at the cross section of TFTs instead of indirect normal transmission line method (TLM). Moreover, we revealed that the difference of 2 delta L leads the variation of total parastic capacitance in devices, which play a key role in the properites of EL currents in case of display devices.
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