Impact of plasma power on plasma enhanced atomic layer deposited TiO2 as a spacer

等离子体 原子层沉积 图层(电子) 材料科学 纳米技术 化学 工程物理 物理 核物理学
作者
Hee Jun Yoon,Hyeongtag Jeon
出处
期刊:Thin Solid Films [Elsevier]
卷期号:807: 140551-140551
标识
DOI:10.1016/j.tsf.2024.140551
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