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Effect of novel non-inhibitor slurry on chemical mechanical polishing properties of copper interconnect copper film based on experiments and theoretical calculations

化学机械平面化 泥浆 互连 抛光 材料科学 化学工程 复合材料 冶金 计算机科学 工程类 计算机网络
作者
Chao He,Xinhuan Niu,Jianghao Liu,Ni Zhan,Yida Zou,Changxin Dong,Xinjie Li,Jiabao Cheng,Yunhui Shi,Xiaodong Luan
出处
期刊:Colloids and Surfaces A: Physicochemical and Engineering Aspects [Elsevier]
卷期号:: 135457-135457
标识
DOI:10.1016/j.colsurfa.2024.135457

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