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Surface Diffusion-Controlled Jonhson–Mehl–Avrami–Kolmogorov Model for Hydrogenation of Mg-based Alloys

扩散 热力学 氢化物 材料科学 指数 合金 氢气储存 物理化学 化学 冶金 物理 金属 语言学 哲学 有机化学
作者
Tongwen Huang,Chengshang Zhou
出处
期刊:Journal of Physical Chemistry C [American Chemical Society]
卷期号:127 (28): 13900-13910 被引量:7
标识
DOI:10.1021/acs.jpcc.3c02650
摘要

The use of the Jonhson–Mehl–Avrami–Kolomogorov (JMAK) model has become prevalent in the kinetic analysis for Mg-based hydrogen storage alloys. However, the classical JMAK model has shown inadequate results in certain cases, resulting in poor fitness and/or inexplicably low Avrami exponent n. To address this issue, this paper proposes a new model based on the classic JMAK model. The new model considers the preferential growth of the hydride phase from the surface into the bulk, resulting in a diffusion barrier effect during the hydrogenation of Mg-based hydrogen storage alloys. A new parameter, surface diffusion barrier index b, is introduced to quantify the surface diffusion barrier effect. The governing equation is expressed as ln( – ln [1 – Y(t)]) = n ln k + n ln t – bt. The modified JMAK model demonstrates improved fitting performance for the hydrogenation analysis in multiple Mg-based systems. Additionally, the relationship between diffusion barrier index b and the reaction rate is discussed. The results suggest that the faster initial reaction rate leads to a stronger diffusion barrier, which inhibits the subsequent hydrogenation for the alloy.
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