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NMOS SiP Epitaxy Process - Optimizing Facet Growth
优化NMOS SiP外延工艺的刻面生长
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期刊:ECS transactions 作者:Chin-I Liao; Cheng-Chung Chien; Michael Chan; C. L. Yang; Jun Wu; et al 出版日期:2013-03-15 |
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