First-Principles Study of Boron Diffusion in Silicon

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标题	First-Principles Study of Boron Diffusion in Silicon 氧和硼在γ-TiAl中溶解度和扩散的第一性原理研究相关领域扩散硼热力学溶解度原子扩散化学材料科学物理化学物理有机化学
网址	https://doi.org/10.1103/physrevlett.83.4345
DOI	10.1103/physrevlett.83.4345 doi 提醒：求助人提供的doi与AI识别不一致 10.1016/j.commatsci.2019.109475 Doi
其它	期刊：Physical Review Letters 作者：Wolfgang Windl; M. M. Bunea; R. Stumpf; Scott T. Dunham; Michael P. Masquelier 出版日期：1999-11-22
求助人	小富在 2024-01-28 21:29:34 发布自陕西，悬赏 10 积分
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