标题 |
Novel materials design for immersion lithography
浸没式光刻的新型材料设计
相关领域
抵抗
浸没式光刻
平版印刷术
材料科学
沉浸式(数学)
浸出(土壤学)
表面粗糙度
涂层
表面光洁度
纳米光刻
复合材料
纳米技术
光电子学
图层(电子)
制作
医学
环境科学
数学
替代医学
病理
纯数学
土壤科学
土壤水分
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者:Kenji Wada; Shinichi Kanna; Hiromi Kanda 出版日期:2007-03-16 |
求助人 | |
下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|