Recent progress on kinetic control of chemical vapor deposition growth of high-quality wafer-scale transition metal dichalcogenides

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标题	Recent progress on kinetic control of chemical vapor deposition growth of high-quality wafer-scale transition metal dichalcogenides 高质量晶片级过渡金属二硫族化物化学气相沉积生长动力学控制研究进展相关领域化学气相沉积成核薄脆饼纳米技术材料科学制作过渡金属结晶度沉积（地质）
网址	https://pubs.rsc.org/en/content/articlepdf/2021/na/d1na00171...
DOI	10.1039/d1na00171j doi
其它	期刊：Nanoscale advances 作者：Qun Wang; Run Shi; Yaxuan Zhao; Runqing Huang; Zixu Wang; et al 出版日期：2021-06-15
求助人	清爽思烟在 2025-02-01 16:54:37 发布自河北，悬赏 10 积分
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