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 Boron and high-k dielectrics: Possible fourth etch stop colors for multipattern optical lithography processing 硼和高k电介质：用于多图案光学光刻处理的可能的第四蚀刻停止颜色
相关领域
电介质
材料科学
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蚀刻（微加工）
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等离子体刻蚀
高-κ电介质
光电子学
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化学
有机化学
图层（电子）
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者：Shailesh Dhungana; Thuong D. Nguyen; Bradley J. Nordell; Anthony N. Caruso; Michelle M. Paquette; et al 出版日期：2017-01-27 |
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