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标题
Amorphous/crystalline silicon interface defects induced by hydrogen plasma treatments
氢等离子体处理引起的非晶/晶体硅界面缺陷
相关领域
钝化 晶体硅 材料科学 硅 非晶硅 无定形固体 纳米晶硅 蚀刻（微加工） 氢 单晶硅 光电子学 异质结 等离子体增强化学气相沉积 纳米技术 结晶学 化学 图层（电子） 有机化学
网址
https://doi.org/10.1063/1.4811253
AI链接 aip.org zenodo.orgdoi.org
DOI
10.1063/1.4811253 doi
其它 期刊：Applied Physics Letters
作者：Jonas Geissbühler; Stefaan De Wolf; Bénédicte Demaurex; Johannes P. Seif; Duncan T. L. Alexander; et al
出版日期：2013-06-10
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Echo 在 2025-01-24 14:59:28 发布自上海，悬赏 10 积分
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