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 Tungsten oxide thin films for electrochromic applications: Pulse width‐controlled deposition by high‐power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) 电致变色用氧化钨薄膜：高功率脉冲磁控溅射脉冲宽度控制沉积
相关领域
高功率脉冲磁控溅射
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期刊：Advanced Engineering Materials 作者：Hamed Najafi-Ashtiani; M.M.M. Bilek; Behnam Akhavan 出版日期：2024-02-06 |
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