标题 |
![]() 反应磁控溅射沉积ZrN薄膜的研究
相关领域
氮化锆
X射线光电子能谱
材料科学
分析化学(期刊)
结合能
溅射
氮化物
锆
化学计量学
氮化铟
溅射沉积
电阻率和电导率
薄膜
卢瑟福背散射光谱法
表面粗糙度
氮化钛
冶金
原子物理学
核磁共振
纳米技术
复合材料
化学
图层(电子)
物理化学
工程类
物理
电气工程
色谱法
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Surface and Coatings Technology 作者:M. Re; R. Gouttebaron; J. P. Dauchot; Philippe Leclère; G. Terwagne; et al 出版日期:2003-09-01 |
求助人 | |
下载 | |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|