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标题
Epitaxy of high-quality antiferromagnetic metal chromium nitride films with 90° and 40° off-axis magnetron sputtering
90°和40°离轴磁控溅射外延高质量反铁磁金属氮化铬薄膜
相关领域
材料科学 氮化铬 溅射沉积 反铁磁性 外延 氮化物 溅射 金属 光电子学 冶金 薄膜 凝聚态物理 复合材料 纳米技术 物理 图层(电子)
备注
求正式发表版本
网址
DOI
10.1116/6.0004445 doi
其它 期刊:Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films
作者:Zhiliang Xu; Rongjing Zhai; Jiachang Bi; Ruyi Zhang; Congqin Ning; et al
出版日期:2025-04-11
求助人
jlwang 在 2025-04-24 18:48:52 发布自江苏,悬赏 10 积分
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