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First Principle Molecular Dynamic Simulations of Oxygen Plasma Etching of Organosilicate Low Dielectric Materials
氧等离子体刻蚀有机硅酸盐低介电材料的第一性原理分子动力学模拟
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期刊:Ceramic engineering and science proceedings 作者:Jincheng Du; Mrunal Chaudhari 出版日期:2010-09-27 |
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