Experimental and computational studies on TAD as an additive of copper chemical mechanical polishing

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标题	Experimental and computational studies on TAD as an additive of copper chemical mechanical polishing TAD作为铜化学机械抛光添加剂的实验与计算研究相关领域材料科学铜抛光冶金化学机械平面化复合材料
网址	https://doi.org/10.1016/j.surfin.2024.104459
DOI	10.1016/j.surfin.2024.104459 doi
其它	期刊：Surfaces and Interfaces 作者：Jinxiang Huo; Baohong Gao; Bin He; wenhaoyu li; Bin Liang; et al 出版日期：2024-07-01
求助人	丁丁峥在 2024-09-20 12:57:13 发布自天津，悬赏 10 积分
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