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 Quantitative characterization of absorber and phase defects on EUV reticles using coherent diffraction imaging 用相干衍射成像定量表征EUV标线上的吸收体和相位缺陷
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期刊：Journal of Micro/Nanolithography MEMS and MOEMS 作者：Iacopo Mochi; Sara Fernández; Ricarda Nebling; Uldis Locāns; Rajeev Rajendran; et al 出版日期：2020-01-30 |
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