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 IR, ESR and resistivity measurements on amorphous silicon oxi-nitride films prepared by PECVD at low temperature 低温PECVD非晶氮化硅薄膜的IR、ESR和电阻率测量
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期刊：Journal of Non-Crystalline Solids 作者：Y. Cros; D. Jousse; J. Liu; J. C. Rostaing 出版日期：1987-02-01 |
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