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 Silicon Surface Passivation by Thin Thermal Oxide/PECVD Layer Stack Systems 通过薄热氧化物/PECVD层堆叠系统对硅表面的钝化
相关领域
钝化
图层（电子）
材料科学
等离子体增强化学气相沉积
硅
分析化学（期刊）
物理
纳米技术
光电子学
化学
有机化学
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| 其它 |
期刊：IEEE Journal of Photovoltaics 作者：Sebastian Mack; W. Aßmus; Christoph Brosinsky; S. Schmeisser; Achim Kimmerle; et al 出版日期：2011-10-01 |
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