Chemical Vapor Deposition of Tantalum Carbide from TaCl5-C3H6-Ar-H2 System

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标题	Chemical Vapor Deposition of Tantalum Carbide from TaCl5-C3H6-Ar-H2 System TaCl5-C3H6-Ar-H2体系化学气相沉积碳化钽相关领域升华（心理学）材料科学钽化学气相沉积碳化钽 X射线光电子能谱碳化物拉曼光谱沉积（地质）分析化学（期刊）化学工程冶金化学纳米技术环境化学生物光学物理工程类古生物学心理学心理治疗师沉积物
网址	https://doi.org/10.4191/kcers.2016.53.6.597
DOI	10.4191/kcers.2016.53.6.597 doi
其它	期刊：Han-guk seramik hakoeji/Han'gug se'la'mig haghoeji 作者：Daejong Kim; Sang Min Jeong; Soon‐Gil Yoon; Chang Hyun Woo; Joung Il Kim; et al 出版日期：2016-11-30
求助人	房东家的猫在 2024-07-18 20:41:50 发布自山东，悬赏 10 积分
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