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 Application of Bis[2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyl] octamethyltetrasiloxane in the Preparation of a Photosensitive Resin for Stereolithography 3D Printing 双[2-(3,4-环氧环己基)乙基]八甲基四硅氧烷在制备立体光刻3D打印用光敏树脂中的应用
相关领域
立体光刻
材料科学
收缩率
傅里叶变换红外光谱
3D打印
复合材料
化学工程
工程类
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| 其它 |
期刊：Journal of Wuhan University of Technology-Mater Sci Ed 作者：Biwu Huang; Le Han; Baolin Wu; Hao Chen; Zhou Wen-bin; et al 出版日期：2019-12-01 |
| 求助人 | |
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