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 Effects of Gate Dielectric and Process Treatments on the Electrical Characteristics of IGZO TFTs With Film Profile Engineering 栅介质和工艺处理对IGZO薄膜薄膜晶体管电学特性的影响
相关领域
电介质
栅极电介质
材料科学
物理
电气工程
光电子学
晶体管
电压
工程类
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期刊：IEEE transactions on plasma science 作者：Bo-Shiuan Shie; Horng-Chih Lin; Rong Jye Lyu; Tiao−Yuan Huang 出版日期：2014-12-01 |
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