Investigation on helium ion beam lithography with proximity effect correction

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标题	Investigation on helium ion beam lithography with proximity effect correction 具有邻近效应校正的氦离子束光刻技术研究相关领域抵抗平版印刷术材料科学离子束光刻光学电子束光刻加速度加速电压邻近效应（电子束光刻）光电子学纳米技术物理阴极射线电子经典力学量子力学图层（电子）
网址	http://dx.doi.org/10.1117/1.JMM.20.3.033201
DOI	10.1117/1.JMM.20.3.033201 doi
求助人	Jermy 在 2025-02-24 14:10:28 发布自江苏，悬赏 20 积分
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