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标题
Etching Mechanism of Silicon Nitride in HF-Based Solutions
氮化硅在HF基溶液中的腐蚀机理
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网址
https://doi.org/10.1149/1.1348262
AI链接 iop.orgdoi.org
DOI
10.1149/1.1348262 doi
其它 期刊：Journal of The Electrochemical Society
作者：D. Martin Knotter; T.J.J. Denteneer
出版日期：2001-01-01
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淡淡学术 在 2025-02-25 17:57:54 发布自福建，悬赏 10 积分
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