XPS analysis of aluminum nitride films deposited by plasma source molecular beam epitaxy

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标题	XPS analysis of aluminum nitride films deposited by plasma source molecular beam epitaxy 等离子体源分子束外延氮化铝薄膜的XPS分析相关领域分子束外延 X射线光电子能谱氮化物结合能材料科学铝氧气结晶学化学键外延分析化学（期刊）化学冶金纳米技术化学工程图层（电子）原子物理学有机化学物理工程类
网址	https://doi.org/10.1002/sia.2874
DOI	10.1002/sia.2874 doi
其它	期刊：Surface and Interface Analysis 作者：Leland Rosenberger; Ronald J. Baird; Erik F. McCullen; Gregory W. Auner; Gina S. Shreve 出版日期：2008-06-23
求助人	阳阳阳在 2024-11-12 16:20:00 发布自北京，悬赏 10 积分
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